Studier av NO:s oxidation i mörker i halter mellan 0.1 och 3 ppm.

Den icke fotokemiska omvandlingen av NO till NO2 har studerats vid två temperaturnivåer, 0 resp. 30 grader samt vid ett flertal haltnivåer i intervallet 0.05 till 3 ppm i en 0.2 m3 reaktionskammare av teflon. Hastighetskonstanten för den homogena syreoxidationen i ren luft har härvid bestämts vid 30 grader, och aktiveringsenergin har uppskattats. Vid låga NO-halter påskyndas syreoxidationen av vad som synes vara heterogena reaktionsmekanismer, vilket kan leda till en snabbare NO2-bildning om aktiva ytor, tex partiklar finns närvarande. Förutom bildningen av NO2 har även bildningen av HNO2 studerats. Härvid har konstaterats att reaktionen mellan NO, NO2 och vattenånga är den dominerande för HNO2-produktionen och att värdet på tillhörande hastghetskonstant är betydligt högre än vad som framkommit av tidigare studier.

Prenumerera på våra nyhetsbrev